용도

 Gate valve는 박막을 형성하는 반도체 제조용 장비에서 공정체임버 내의 압력을 차단하고 유지시켜주는 부품입니다.

 당사는 슬림하고 컴팩드한 설꼐와 장비로부터 밸브 바디를 분리하지않고 유지보수가 가능한 설계가 특징입니다.

 보통, 터보펌프 상단 혹은 드라이펌프 앞에 설치가 됩니다. 작동되는 방식에 따라 핸들형 메뉴얼 밸브와 공압식 밸브가 있습니다.

 고객의 요구에 따라 표준화된 KF, ISO, CF, ASA 플랜지와 구경에 대한 제품공급을 하고 있습니다.

 사용온도 조건과 사용하는 부식가스에 따라 맞춤형 재질(오링, 벨로즈)을 선택하여 제작공급이 가능합니다. 최대 550mm 직경까지 제작가능합니다.

 사용처

 CVD, ETCHER, PVD, SPUTTER, OLED, PV